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フォトマスク欠陥測定システム
レチクル検査装置、顕微鏡等のビデオソースからのイメージ画像を利用して高精度でCD、欠陥、OPC、Corner、コンタクトの測定を行います。PSMへ適応可能。
（製造元： 米国 Automated Visual Inspection社、 http://www.aviphotomask.com）
| １． | Flux Area測定技術（AVI社特許で欠陥を通してくる光量または欠陥が吸収する光量の測定）により、SEMの測定精度を上回り、再現性１-5nmで測定可能。 | |
| ２． | CD、欠陥、コンタクトホール、エッジの粗さ、コーナー径、OPC等の測定が可能。PSMでのHalf-Toneも測定可能。 | |
| ３． | 測定にThresholdは使用しない為オペレーター依存性は無い。 | |
| ４． | 高い再現性と瞬間測定が可能。 | |
| ５． | マスク品質の改善に寄与。 | |
| ６． | オペレーションが容易。 | |
| ７． | 検査装置の使用効率や処理数の向上。 |
