フォトマスク装置
高度なリソグラフィープロセスの為には、完全なフォトマスクが重要な役割を果たします。ズース マイクロテックはフォトマスクの洗浄、ベーク、現像プロセスに関するリソグラフィーロードマップの次世代の基準を満たした自動機をご提供致します。その革新的なソリューションは、 193i 1x ハーフピッチ DPT、極端紫外線リソグラフィー（EUVL）、ナノインプリントリソグラフィー（NIL）等の高い要求に対応しています。革新的なプロセスはフォトマスクの最高品質を目指します。
MaskTrack Pro Series
 |
MaskTrack Proは、サードパーティーの製品を拡張することが可能で、その拡張によって保管、ハンドリング、完全に管理された清浄な環境下におけるフォトマスク処理への全体的なアプローチを提供します。モジュールタイプのデザインが顧客の要望に対する高い柔軟性と適応性を保証します。MaskTrack Proは、ハイスループットで最高の洗浄結果をお届けします。そのため、業界でも最適なプラットフォームとして評価されています。
|
ASX Seriess
 |
SUSS MicroTecのASxシリーズは、250nm～90 nmのテクノロジーノードとフォトマスク加工に最新のベーク、現像、洗浄のメソッドを提供します。信頼性、安定性、そして高性能によって、本プラットフォームは、248nm-193nm領域のリソグラフィープロセスでの欠陥のないフォトマスクの加工における要件に応えます。
|
HMX Series
 |
HMxSquareは、その現像機能性、エッチング機能性、洗浄機能性において、フォトマスク分野や、オプトエレクトロニクス、OELD、特殊な半導体後工程（MEMS）分野における用途に、高品質の基板処理を提供しています。HMxSquare は、手動操作により、少量生産または特殊な基板のパイロット生産も可能です。装置は、独自のHMxシリーズの実証済みの安定性と信頼性により、電子制御機能、新しい洗浄方法に可能性、環境保護並びに労働安全技術にマッチします。
|
