フォトマスク装置
高度なリソグラフィープロセスの為には、完全なフォトマスクが重要な役割を果たします。ズース マイクロテックはフォトマスクの洗浄、ベーク、現像プロセスに関するリソグラフィーロードマップの次世代の基準を満たした自動機をご提供致します。その革新的なソリューションは、 193i 1x ハーフピッチ DPT、極端紫外線リソグラフィー(EUVL)、ナノインプリントリソグラフィー(NIL)等の高い要求に対応しています。革新的なプロセスはフォトマスクの最高品質を目指します。
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高度なリソグラフィープロセスの為には、完全なフォトマスクが重要な役割を果たします。ズース マイクロテックはフォトマスクの洗浄、ベーク、現像プロセスに関するリソグラフィーロードマップの次世代の基準を満たした自動機をご提供致します。その革新的なソリューションは、 193i 1x ハーフピッチ DPT、極端紫外線リソグラフィー(EUVL)、ナノインプリントリソグラフィー(NIL)等の高い要求に対応しています。革新的なプロセスはフォトマスクの最高品質を目指します。
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